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杉本 俊一
Int.J.Appl.Radiat.Isot., 34(3), p.559 - 564, 1983/00
放射線照射によりCO-H混合気体から化学工業の粗原料を得るための基礎的条件を検討する研究の一環として加圧状態(510Pa)で線照射し、照射線量、気体組成または照射温度と生成物(炭化水素および含酸素化合物)収量との関係を調べた。線は電子線とは線量率が異なるので同一線量を与えるためには電子線照射に比べて1400倍の時間が必要であった。このために線照射の場合には、ホルムアルデヒドやアセトアルデヒドのような生成物は同時に熱化学反応が進行するので電子線照射に比べて見掛けの収量は低下した。しかし熱化学反応も考慮すれば、510Paの線照射効果はよう低圧(110Pa以下)の電子線照射効果から説明しうる。
永井 士郎; 新井 英彦; 畑田 元義
Radiation Physics and Chemistry, 16(2), p.175 - 181, 1980/00
シリカゲル存在下でCO-H混合気体を電子線照射すると、炭化水素とCOが選択的に、また高収量で生成することを見出した。反応温度140CではCOの生成量が多く、その大部分は炭化水素とは無関係に生成する。炭化水素の主成分は低級パラフィンであり、295Cにおける収量は均一系で得られる収量より1ケタ以上多く、Fischer-Tropsch触媒による収量と同程度である。一方、シリカゲルをあらかじめCO-He混合気体流通下で照射し、その存在下でHを照射すると、低級パラフィンを主成分とする炭化水素が高濃度で生成することが見出された。これらの結果を解析することにより、シリカゲル存在下におけるCO-H混合気体から生成する炭化水素は主として、COから生成する固体沈積物とHとの二次的な反応によることが明らかになった。
永井 士郎; 松田 光司; 新井 英彦; 畑田 元義
JAERI-M 7875, 75 Pages, 1978/10
昭和50年度から研究を開始した固体触媒存在下におけるCOとHの電子線照射効果について、現在までに得られた結果を整理して考察した。固体触媒としては、Feを主成分とするFischer-Tropsch触媒を重点として、その存在下におけるCOとH混合気体の放射線反応、および均一気相系の反応、前照射混合気体の触媒上での反応、触媒による混合気体の熱反応系関連反応に関する研究を行なった。これら種々の反応による生成物の分布および収量の比較から、Fischer-Tropsch触媒存在下における反応は、気相における放射線反応、未反応原料気体の触媒による反応、およびそれら反応による生成アルデヒドおよびオレフィンの水素化として説明可能であることが明らかになったシリカゲル、MgO、CrO・ZnO触媒存在下における反応についても検討を行い、これらの実験結果から得られた知見をもとにして今後の研究方向について考察を加えた。